中科院上海冶金所研制的二氯二氢硅通过市级鉴定
日期：1987.01.01 阅读数：9
【类型】期刊
【作者】张桂成
【刊名】传感器技术
【关键词】 二氯二氢硅；外延沉积；半导体器件；外延层；氧化层；均匀度；进口原料；组份
【ISSN号】2096-2436
【页码】30
【年份】1987
【期号】第4期
【期刊卷】0
【摘要】
【全文】 全文